წიგნების ძებნა
წიგნები
დახმარება
შესვლა
შესვლა
ავტორიზებულ მომხმარებლებს აქვთ წვდომა:
პერსონალური რეკომენდაციები
Telegram ბოტი
ჩამოტვირთვის ისტორია
გაგზავნეთ Email-ზე ან Kindle-ზე
კრებულების მართვა
შენახვა რჩეულებში
პირადი
წიგნის მოთხოვნა
შესწავლა
Z-Recommend
წიგნების სარჩევი
ყველაზე პოპულარული
კატეგორია
მონაწილეობა
დახმარება
ატვირთვები
Litera Library
ქაღალდის წიგნების შეწირვა
ქაღალდის წიგნების დამატება
Search paper books
ჩემი LITERA Point
საკვანძო სიტყვების ძებნა
Main
საკვანძო სიტყვების ძებნა
search
1
Dépôts de TaNx par pulvérisation cathodique magnétron à fort taux d’ionisation de la vapeur pulvérisée
Chengfei Jin
films
pcm
hipims
tanx
d’azote
taux
magnétron
pression
tension
plasma
substrat
ipvd
procédé
minces
courant
cible
atomes
pulvérisation
décharge
surface
résistivité
µs
composition
masse
vitesse
cathodique
appliquée
densité
deposition
diffusion
faible
boucle
propriétés
polarisation
volumique
croissance
d’ionisation
augmente
déposés
liaison
moyenne
pic
obtenus
électrons
raies
contamination
nanotubes
films
énergie
diffraction
ენა:
french
ფაილი:
PDF, 5.46 MB
თქვენი თეგები:
0
/
0
french
1
მიჰყევით
ამ ბმულს
ან Telegram-ში მოძებნეთ „@BotFather“ ბოტი
2
გაგზავნეთ ბრძანება /newbot
3
შეიყვანეთ თქვენი ბოტის სახელი
4
შეიყვანეთ მომხმარებლის სახელი ბოტისთვის
5
დააკოპირეთ BotFather-ისგან ბოლო შეტყობინება და ჩასვით აქ
×
×